JEM-2100Plus представляет собой обновленную модель JEM-2100, которая сохранила все преимущества прекрасно зарекомендовавшей себя колонны JEM-2100, но также получила новый дизайн, интерфейс и систему управления «TEM Center».
Более компактный эргономичный JEM-2100Plus занимает существенно меньше места: ширина прибора 2036мм вместо 2250мм, ассиметричный стол оператора стал гораздо удобнее. Панели управления с металлическими кнопками и ручками снабжены LED подсветкой.
Широкий выбор полюсных наконечников и различных приставок позволяет сконфигурировать JEM-2100Plus для решения самых разнообразных задач в сфере материаловедения, микро- и наноэлектроники, биологии и медицины.
Новая система управления «TEM Center», которая уже опробована на других моделях ПЭМ (JEM-1400Plus, JEM-ARM200F и др.) и доказала удобство и эффективность, работает под 64-битной версией Microsoft Windows и позволяет легко переключаться между различными режимами работы. На экран компьютера выведено управление всеми основными параметрами прибора.
Высокоточный, стабильный гониометрический столик образцов JEM-2100Plus, оснащенный пьезомеханической системой подвижки и компенсации дрейфа, позволяет получать четкие микрофотографии высокого разрешения, осуществлять элементное картирование образцов с высокой локальностью, а также проводить их 3D-томографию.
В конструкцию электронно-оптической колонны JEM-2100Plus заложены три независимые конденсорные линзы, которые обеспечивают высокий ток для любого диаметра пучка, обеспечивая тем самым широкие возможности для проведения элементного анализа и микродифракции. Разработанный специалистами компании JEOL Alpha Selector™ позволяет пользователю легко выбирать любой режим освещения образца: от полностью сходящегося пучка до полностью параллельного. Наблюдение магнитных доменов (микроскопия Лоренца) доступно даже в базовой комплектации прибора. Диафрагма высокого контраста, совместимая с любым полюсным наконечником, позволяет одновременно получать высококонтрастные изображения и проводить элементный анализ.
Возможность выбора цифровых камер от третьих производителей или собственная разработка JEOL – полностью интегрированная 8Мп камера нижнего крепления, с четко работающим набором автофункций (экспозиция, автофокус, запись и монтаж изображений, компенсация дрейфа) и управлением через общий TEM Center. В комбинации с ПРЭМ-режимом также есть возможность использования функций автофокусировки, автоконтраста/автояркости и системы навигации, позволяющей автоматически перемещать столик образцов в любую ранее записанную точку.
В зависимости от условий эксплуатации и аналитических задач заказчика, вакуумная система JEM-2100Plus может быть укомплектована полностью безмасляными турбомолекулярными и форвакуумными насосами. Такое решение позволяет использовать микроскоп в «чистых» помещениях.
Ключевые преимущества
Основные преимущества JEM-2100Plus:
• Классическая, высокостабильная, надежная электронно-оптическая колонна, доведенная до совершенства.
• Эргономичная, интуитивно понятная, система управления TEM Center, совместимая с 64-битной Windows.
• Большой выбор полюсных наконечников объективной линзы для любого класса задач: высокого и сверхвысокого разрешения для изучения наносистем; большого наклона для томографии и 3D-реконструкции объектов исследований; криогенный для работы с биологическими и чувствительными к электронному пучку образцами; высокого контраста для анализа образцов, состоящих из легких элементов.
• Возможность наклона образца на угол до 80º делает возможным проведение двухосевой томографии.
• Полная автоматизация процесса томографии и 3D-реконструкции образца.
• Возможность работы в ПРЭМ-режиме.
• Возможность работы с любыми детекторами – BF/DF, HAADF, SE/BSE и пр.
• Возможность проведения элементного анализа при помощи энергодисперсионного спектрометра с безазотным охлаждением.
• Высокостабильный гониометрический столик с пьезомеханической подвижкой и компенсацией дрейфа.
• Возможность оснащения цифровыми камерами нижнего и бокового крепления, в том числе полностью интегрированной 8-мимегапиксельной камерой JEOL.
• Возможность работы в офф-лайн режиме (просмотр, проведение измерений на изображении и т.п.).
• Взаимозаменяемость катодов - возможность выбора оператором катода, в зависимости от решаемых в данный момент задач: вольфрамовый для рутинной работы или LaB6 для тонких исследований.
• Возможность выбора между масляной и безмасляной системами откачки.
• Компактный дизайн, возможность размещения в небольшом помещении.
• Относительно невысокая стоимость владения прибором.
| Конфигурация | Сверхвысокое разрешение | Высокое разрешение | Большой наклон образца | Крио | Высокий контраст |
| РАЗРЕШЕНИЕ | |||||
| по точкам, нм | 0,194 | 0,23 | 0,25 | 0,27 | 0,31 |
| по решетке, нм | 0,14 | ||||
| УСКОРЯЮЩЕЕ НАПРЯЖЕНИЕ | |||||
| Предустановленные значения | 80, 100, 120, 160, 200 кВ | ||||
| Минимальный шаг изменения напряжения | 50 В | ||||
| СТАБИЛЬНОСТЬ ПАРАМЕТРОВ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ КОЛОННЫ | |||||
| ускоряющего напряжения | 2х10-6/мин. | ||||
| тока объективной линзы | 2х10-6/мин. | ||||
| ПАРАМЕТРЫ ОБЪЕКТИВНОЙ ЛИНЗЫ | |||||
| Фокусное расстояние | 1,9 мм | 2,3 мм | 2,7 мм | 2,8 мм | 3,9 мм |
| Коэффициент сферических аберраций | 0,5 мм | 1,0 мм | 1,4 мм | 2,0 мм | 3,3 мм |
| Коэффициент хроматических аберраций | 1,1 мм | 1,4 мм | 1,8 мм | 2,1 мм | 3,0 мм |
| Минимальный шаг фокуса | 1,0 нм | 1,5 нм | 1,8 нм | 2,0 нм | 5,2 нм |
| ДИАМЕТР ФОКУСНОГО ПЯТНА НА ОБРАЗЦЕ | |||||
| В режиме ПЭМ | 20-200 нм | 1 – 5 мкм | |||
| В режиме ПРЭМ/ЭДС | 0,5 – 25 нм, угол схождения пучка зависит |
1,0 – 25 нм, угол схождения пучка |
1,5 – 35 нм, угол схождения пучка |
2,0 – 45 нм, угол схождения пучка |
10 – 500 нм |
| В режиме нормальной дифракции | |||||
| В режиме дифракции в сходящемся пучке | от α селектора | зависит от α селектора | зависит от α селектора | зависит от α селектора | |
| РЕЖИМ ДИФРАКЦИИ В СХОДЯЩЕМСЯ ПУЧКЕ | |||||
| Угол схождения (2α) | 1,5 – 20 мрад. или более | - | - | ||
| Угол сбора | ±10° | - | - | ||
| УВЕЛИЧЕНИЕ | |||||
| В режиме высоких увеличений | х 2’000 –1’500’000 | х 1’500 – 1’200’000 | х 1’200 – 1’000’000 | х 1’000 – 800’000 | |
| В режиме низких увеличений | х 50 – 6’000 | х 50 – 2’000 | |||
| В режиме дифракции | х 8’000 – 800’000 | х 6’000 – 600’000 | х 5’000 – 600’000 | х 5’000 – 400’000 | |
| Длина камеры | |||||
| SA DIFF, мм | 80 – 2’000 | 100 – 2’500 | 150 – 3’000 | ||
| HD DIFF, мм | 4 – 80 | ||||
| ДИАПАЗОНЫ ПЕРЕМЕЩЕНИЙ И УГЛОВ НАКЛОНА ОБРАЗЦА | |||||
| Углы наклона по осям X / Y (при двойном наклоне) | ±25°/ ±25° | ±35°/ ±30° | ±42°/ ±30° | ±15°/ ±10° | ±38°/ ±30° |
| Угол наклона по оси X | ±25° | ±80° | ±80° | ±80° | ±80° |
| Диапазоны перемещений, мм | 2 (X,Y) 0,2 (Z ± 0,1 мм) |
2 (X,Y) 0,4 (Z ± 0,2 мм) |
|||
