JEM-2100F – это универсальный 200кВ просвечивающий электронный микроскоп c термополевой пушкой Шоттки. Большое разнообразие полюсных наконечников и приставок позволяет сконфигурировать его для решения практически любых задач. Электронная пушка на основе термополевого катода Шоттки создает намного более яркий и стабильный пучок, нежели обычный термоэмиссионыый источник на основе катода из вольфрама или гексаборида лантана. Это очень важно для исследований методами растровой просвечивающей электронной микроскопии ультравысокого разрешения, работы со спектрометром характеристических потерь энергии электронов, а также элементного анализа наносистем. Очень яркий электронный пучок диаметром менее нанометра позволяет проводить анализ образцов с субнанометровым разрешением и высокой чувствительностью. Также термополевая пушка, благодаря высокой когерентности электронного пучка, позволяет получать высококонтрастные микрофотографии ультравысокого разрешения. По этой же причине, с помощью специальной бипризмы, на JEM-2100F можно работать в режиме электронной голографии.
Изучению образцов на наноуровне способствует наличие высокоточного и высокостабильного 5-осевого гониометрического столика образцов с пьезоподвижкой, которая позволяет очень плавно и точно перемещать образец на единицы нанометров при исследованиях с большими увеличениями (500000 крат и более), а также компенсировать его дрейф.
В программу управления ПЭМ JEM-2100F легко интегрируются аналитические приставки: энергодисперсионный спектрометр (ЭДС), спектрометр характеристических потерь энергии электронов (СХПЭЭ), энергетический фильтр, различные ПЗС-камеры как бокового, так и нижнего крепления, а также многие другие приставки, позволяющие проводить уникальные исследования.
Ключевые преимущества
Основные преимущества JEM-2100F, которые делают его одним из самых распространенных 200-киловольтных ПЭМ в мире:
• Классическая, высокостабильная, надежная электронно-оптическая колонна, доведенная до совершенства.
• Большой выбор полюсных наконечников объективной линзы для любого класса задач: высокого и сверхвысокого разрешения; большого наклона для 3D-реконструкции объектов исследований; для работы с замороженными биологическими и чувствительными к электронному пучку образцами; высокого контраста для анализа образцов, состоящих, в основном, из легких элементов.
• Возможность наклона образца на угол до 80º, что делает возможным проведение двухосевой томографии.
• Полная автоматизация процесса томографии и 3D-реконструкции образца.
• Возможность работы в ПРЭМ-режиме.
• Возможность проведения элементного анализа при помощи энергодисперсионного спектрометра с безазотным охлаждением.
• Высокостабильный 5-осевой моторизованный столик образцов с пьезомеханической компенсацией дрейфа в плоскости XY и возможностью работы с криодержателями.
• Очень надежная, хорошо автоматизированная и защищенная от различных неожиданностей вакуумная система.
• Возможность установки большого количества разнообразных приставок.
• Благодаря специальной конструкции, длительный срок службы электронной пушки.
• Невысокая стоимость относительно других термополевых ПЭМ.
| Тип полюсного наконечника | Сверхвысокого разрешения | Высокого разрешения | Высокий наклон образца | Для работы с замороженными образцами | Высокого контраста |
| РАЗРЕШЕНИЕ | |||||
| по точкам, нм | 0,19 | 0,23 | 0,25 | 0,27 | 0,31 |
| по решетке, нм | 0,1 | 0,14 | |||
| УСКОРЯЮЩЕЕ НАПРЯЖЕНИЕ | |||||
| Предустановленные значения | 80, 100, 120, 160, 200 кВ | ||||
| Минимальный шаг изменения напряжения | 50 В | ||||
| ИСТОЧНИК ЭЛЕКТРОНОВ | |||||
| Тип эмиттера | ZrO/W (100) катод Шоттки | ||||
| Яркость | не менее 4×108 A/(см²*стерадиан) | ||||
| Степень вакуума в пушке | 10-8 Па | ||||
| Ток пучка | 0,5 нА при диаметре пучка 1 нм | ||||
| СТАБИЛЬНОСТЬ ПАРАМЕТРОВ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ КОЛОННЫ | |||||
| ускоряющего напряжения | 10-6/мин. | ||||
| тока объективной линзы | 10-6/мин. | ||||
| ПАРАМЕТРЫ ОБЪЕКТИВНОЙ ЛИНЗЫ | |||||
| Фокусное расстояние | 1,9 мм | 2,3 мм | 2,7 мм | 2,8 мм | 3,9 мм |
| Коэффициент сферических аберраций | 0,5 мм | 1,0 мм; | 1,4 мм | 2,0 мм | 3,3 мм |
| Коэффициент хроматических аберраций | 1,1 мм | 1,4 мм | 1,8 мм | 2,1 мм | 3,0 мм |
| Минимальный шаг фокуса | 1,0 нм | 1,4 нм | 1,8 нм | 2,0 нм | 5,2 нм |
| ДИАМЕТР ФОКУСНОГО ПЯТНА НА ОБРАЗЦЕ | |||||
| В режиме ПЭМ | 2-5 нм | 7 – 30 нм | |||
| В режиме ПРЭМ/ЭДС | 0,5 – 25 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
1,0 – 25 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
1,5 – 35 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
2,0 – 45 нм, угол схождения пучка зависит от α селектора |
10 – 500 нм |
| В режиме нормальной дифракции | |||||
| В режиме дифракции в сходящемся пучке | |||||
| ПАРАМЕТРЫ РЕЖИМА ДИФРАКЦИИ В СХОДЯЩЕМСЯ ПУЧКЕ | |||||
| Угол схождения （2α） | 1,5 – 20 мрад. или более | - | - | ||
| Угол сбора | ±10° | - | - | ||
| ДИАПАЗОНЫ УВЕЛИЧЕНИЙ | |||||
| В режиме высоких увеличений | х 2’000 – 1’500’000 | х 1’500 – 1’200’000 | х 1’200 – 1’000’000 | х 1’000 – 800’000 | |
| В режиме низких увеличений | х 50 – 6’000 | х 50 – 2’000 | |||
| В режиме дифракции | х 8’000 – 800’000 | х 6’000 – 600’000 | х 5’000 – 600’000 | х 5’000 – 400’000 | |
| ДЛИНА КАМЕРЫ | |||||
| В режиме SA DIFF, мм | 80 – 2’000 | 100 – 2’500 | 150 – 3’000 | ||
| В режиме HD DIFF, м | 4 – 80 | ||||
| В режиме HR DIFF, мм | 333 | ||||
| ДИАПАЗОНЫ ПЕРЕМЕЩЕНИЙ И УГЛОВ НАКЛОНА ОБРАЗОВ | |||||
| Углы наклона по осям X / Y (при двойном наклоне) | ±25°/ ±25° | ±35°/ ±30° | ±42°/ ±30° | ±15°/ ±10° | ±38°/ ±30° |
| Диапазоны перемещений по осям X / Y, мм | ±1 | ||||
| Диапазоны перемещений по оси Z, мм | ±0,1 | ±0,2 | |||
