Под заказ

Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem SU-8

Артикул: 5-354356

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 1 – 100 мкм.

Условия поставки

 

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

 

Упаковка, хранение и транспортировка

 

Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.

 

Фоторезисты компании Microchem используются для производства МЭМС, изделий микроэлектроники, передовой литографии, специальных дисплеев, корпусирования, оптоэлектроники и других динамично развивающихся технологических секторов. Среди материалов компании Microchem представлены известные фоторезисты серии SU-8 и KMPR, предназначенные для фотолитографии, особые фоторезисты серий PMGI и LOR для процессов обратной литографии, а также электронные резисты PMMA для получения сверхвысокого разрешения в процессах электронной литографии.

Фоторезисты серии SU-8 являются негативными фоторезистами для фотолитографии, позволяющими получать плёнки фоторезиста от 1 до 100 мкм. Благодаря своей высокой термической и химической устойчивости они отлично походят для процессов травления, позволяя получать структуры с аспектным соотношением около 10:1, имеющие практически вертикальные стенки.

 
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 1 – 100 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: SU-8 developer.
  • Удаление: Remover PG.
Запросить цену в 1 клик
Комментарии