Негативные фоторезисты серий ma-N 400 и ma-N 1400 созданы для производства МЭМС и обратной (взрывной) фотолитографии. Эти материалы демонстрируют высокую стабильность в процессах жидкостного и сухого травления, высокую температурную устойчивость (до 110оС для ma-N 400 и до 160оС для ma-N 1400); имеют настраиваемый профиль. Широкий спектр доступных вязкостей позволяет выбрать оптимальный фоторезист для получения желаемой толщины плёнки.
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 4,1 – 7,5 мкм (ma-N 400) и 0,5 – 4 мкм (ma-N 1400).
- Экспонирование: 300 – 380 нм (ma-N 400) и 300 – 410 нм (ma-N 1400).
- Проявление: воднощелочными растворами.
Электронный / ГУФ резист серии ma-N 2400
Негативный резист ma-N 2400 широко используется в микро- и наноэлектронике для создания и изменения структур в Si, SiO2, металлах и полупроводниках. Подходит для электронной литографии, фотолитографии в ГУФ, а также используется для создания штампа в технологии наноимпринтной литографии. Кроме того, обладает высокой термической и химической устойчивостью, что позволяет использовать его для процессов травления. Данный резист позволяет получать разрешения до 30 нм.
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
- Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
- Проявление: воднощелочными растворами.
- Техническое описание: ma-N 2400.pdf.
Резисты EpoCore и EpoClad для создания планарных волноводов
Резисты EpoCore и EpoClad используются для создания оптических планарных волноводов методами литографии. Данные материалы позволяют управлять коэффициентом преломления и имеют высокий коэффициент пропускания на длине волны 850 нм. Устойчивы к высоким температурам и давлениям.
Полимеры OrmoStamp для наноимпринтной литографии
Данные полимеры используются в процессе наноимпринтной литографии. Наносятся на подложку традиционными методами. Доступен вариант резиста для дозирования из шприца. Отверждаются с помощью температуры или воздействия УФ излучения. Устойчивы к воздействию различных травителей. Позволяют создавать наноразмерные структуры.
Органическо-неорганические гибридные полимеры Ormocore и Ormoclad
Полимеры Orcmocore и Ormoclad используются для создания планарных для микро- и нанооптических структур и оптических волокон. Ormocore является оптически прозрачным фоточувствительным материалом, из которого формируется оптоволоко, OrcmoClad-основание для создания оптоволокна.
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Срок годности 6 месяцев. Хранить в упаковке от производителя вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Сравнительная таблица для выбора резистов
