Обращаемые (image-reversal) фоторезисты серии TI от компании Microchemicals созданы специально для обратной фотолитографии, а также могут использоваться в процессах сухого и жидкостного травления. Могут наноситься как центрифугированием, так и окунанием или распылением, что позволяет использовать их даже на поверхностях со значительными неоднородностями.
Обращаемые (Image-reversal) фоторезисты для нанесения аэрозольным распылением. Предназначены для процессов обратной литографии и жидкостного химического травления и могут быть использованы как позитивные или обращены и использованы как негативные. Вязкость этих фоторезистов подобрана таким образом, что позволяет использовать их для аэрозольного распыления и получать плёнки толщиной от 2 до 20 мкм (TI Plating) и от 1 до 10 мкм (TI Spray).
- Тон: обращаемый (image-reversal).
- Толщина плёнки: 1 – 10 мкм (TI Spray), 2 – 20 мкм (TI Plating).
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование.
- Проявление: AZ 826 MIF, AZ 400K и др.
- Жидкости для обратной литографии: PGMEA, NMP, MMP, EEP, DMF или ацетон.
- Удаление: AZ 100 Remover или ацетон.
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку следует открывать строго в жёлтом свете.
