Под заказ

Фоторезист для оптической и электронной литографии Microchem LOR

Артикул: 5-354359

  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.

Условия поставки

 

Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.

 

Упаковка, хранение и транспортировка

 

Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.

 

Фоторезисты компании Microchem используются для производства МЭМС, изделий микроэлектроники, передовой литографии, специальных дисплеев, корпусирования, оптоэлектроники и других динамично развивающихся технологических секторов. Среди материалов компании Microchem представлены известные фоторезисты серии SU-8 и KMPR, предназначенные для фотолитографии, особые фоторезисты серий PMGI и LOR для процессов обратной литографии, а также электронные резисты PMMA для получения сверхвысокого разрешения в процессах электронной литографии.

Серия KMPR 1000 предлагает химически усиленные негативные фоторезисты, обладающие отличной адгезией, и идеально подходящие для таких процессов как электроосаждение и глубокое реактивное ионное травление (DRIE). Эти фоторезисты обладают высокой химической и плазменной устойчивостью, что позволяет получать вертикальные стенки с высоким аспектным соотношение. Не требуют усилителя адгезии.

 
  • Тон: негативный.
  • Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
  • Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
  • Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
  • Удаление: Remover PG.
Запросить цену в 1 клик
Комментарии