Товары компании Microchem
Артикул: 5-354155
- Резист: Негативные фоторезисты
- Толщина мкм: 8-100
- Длина волны экспонирования: 350-400 нм
- Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
- Сниматель: Remover PG
Артикул: 5-354166
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 0,5-150
- Длина волны экспонирования: 350-400 нм
- Проявитель: SU-8 developer
- Сниматель: Remover PG
Артикул: 5-354167
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 8-100
- Длина волны экспонирования: 350-400 нм
- Проявитель: TMAH, SU-8 developer и др.
- Сниматель: Remover PG
Артикул: 5-354176
- Резист: Позитивный
- Толщина мкм: 0,5-2,0
- Другие методы экспонирования: я-линия, ГУФ, рентген
- Проявитель: Разработчик нано ПММА
- Сниматель: АР 600-71, АР 300-76, АР300-72
Артикул: 5-354177
- Резист: Позитивный
- Толщина мкм: 0,5-5,0
- Другие методы экспонирования: я-, г-. ч-линии, рентген, ГУФ
- Проявитель: 0.26 Н МИФ 0.24 Н МИФ МИБ
- Сниматель:
Артикул: 5-354356
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 1 – 100 мкм.
Артикул: 5-354357
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
- Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
Артикул: 5-354358
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки осаждённого материала: 0,02 – 5 мкм
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм), ГУФ, 193 нм или электронным пучком.
- Проявление: TMAH и другие металлосодержащие проявители.
- Удаление: Remover PG.
Артикул: 5-354359
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 4 – 120 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365н м) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
- Проявление: 2,8% TMAH, SU-8 developer или KOH.
Артикул: 5-354360
- Тон: позитивный.
- Толщина: 0,2 – 2 мкм.
- Экспонирование: электронным пучком, рентгеновскими лучами или ГУФ.
- Проявление: MIBK.
Вход на сайт
Раздел в разработке.
Отменить заказ
Ваша корзина
| Наименование | Цена | Кол-во | Стоимость | Удалить |
Ваша корзина пока пуста. | ||||
Итого:0 руб.
Ваша корзина