Высокоточное вакуумное устройство экспонирования специально разработано для двустороннего контактного экспонирования на предварительно подготовленных материалах, таких как трафаретные клише, печатные платы, лицевые панели, фотопленки и другие покрытия, чувствительные к УФ лучам после специальной обработки.
Особенности:
- 2×6 сверхактиничные УФ -лампы, каждая по 20 Вт
- Особые отражатели для минимизации затенений
- Аналоговый дисплей с ярким излучением
- Нижняя поверхность экспонирования сделана из особого стекла толщиной 8 мм
- Верхняя зона экспонирования выполнена из структурированной пленочной фольги в прочной раме
- Рабочая зона: 570 × 300 мм
- Устройство применимо для производства печатных плат высоких классов точности
- Необслуживаемый вакуумный насос (80%) с градуированным дисплеем и производительностью 1380 л/час при постоянной нагрузке
- Цифровой таймер: от 1 сек до 99 мин с обратным отсчетом, автоматический сброс параметров и бипер
- Встроенный вентилятор
- Возможно независимое использование верхнего или нижнего модуля для экспонирования
- Прочный стальной корпус
Характеристики:
- Размеры (Д × В × Ш): 62 × 24 × 65 см
- Вес: 40 кг
- Электропитание: ~230 В, 50 Гц, примерно 800 Вт
