JSM-7100F – сканирующий электронный микроскоп с катодом Шоттки. Этот микроскоп является оптимальным решением для работы с наноразмерными образцами, он совмещает в себе высокую разрешающую способность необходимую для получения высокого разрешения при больших увеличениях при визуальном исследования образцов и высокие токовые характеристики электронного пучка (ток пучка до 200 нА). Благодаря уникальной конструкции электронно-оптической колонны достигается высокая стабильность пучка во времени, что очень важно при использовании методов энергодисперсионного анализа, волнодисперсионного анализа, дифракции обратно рассеянных электронов, катодолюминисценции
В электронно-оптической колонне микроскопа JEOL JSM 7100F реализована In-lens схема расположения катода, что позволяет с высокой эффективностью отбирать электроны эмитируемые с катода и поддерживать высокий ток пучка, и линзы с оптимальным углом апертуры для формирования тонкого зонда, даже при высоких токах
Микроскоп в базовой конфигурации оснащается высокоэффективным детектором вторичных электронов и детектором обратно отраженных электронов и системой Gentle Beam (GB) которая позволяет улучшить разрешение при низких ускоряющих напряжениях. В конфигурации JSM7500TTL помимо вышеперечисленных детекторов устанавливаются 2 Through the Lens (TTL) детектора. Они располагаются непосредственно внутри колонны и их использование позволяет улучшить разрешение.
Микроскоп JEOL JSM7100F позволяет исследовать непроводящие образцы методом ЭДС и ДОРЭ при высоких ускоряющих напряжениях в режиме низкого вакуума. Давление в камере может регулироваться в пределах от 10 до 300 Па.
Благодаря используемой в данном микроскопе электронно-оптической колонне, которая позволяет работать с пучком малого диаметра и большим током, возможно построение карт распределения элементов при малых ускоряющих напряжениях, что обеспечивает получение результат с очень большой локальностью.
Модификация | JSM-7100F | JSM-7100F/TTL | JSM-7100F/LV |
Разрешение | 1,2 нм (30 кВ), 3,0 нм (1 кВ), 3,0нм (15 кВ, 5 нА, рабочий отрезок 10 мм) |
1,2 нм (30 кВ), 2,0 нм (1 кВ), 3,0нм (15 кВ, 5 нА, рабочий отрезок 10 мм) |
1,2 нм (30 кВ), 3,0 нм (1 кВ), 3,0нм (15 кВ, 5 нА, рабочий отрезок 10 мм) |
Увеличение | X10- x1 000 000 | ||
Ускоряющее напряжение | 200 В - 30 кВ | 100 В - 30 кВ | 200 В - 30 кВ |
Ток пучка | 1 пА - 200 нА | 1 пА - 200 нА 1 пА - 20 нА (с установленной горловиной) |
|
Линза, оптимизирующая угол вхождения пучка в диафрагму | Встроена по умолчанию | ||
Энергетический фильтр | отсутствует | Встроен. Управляется напряжением | отсутствует |
Режим торможения пучка «Gentle Beam» | Доступен в базовой комплектации | ||
Предметный столик | Эвцентрический гониометрический столик | ||
Моторизованный по 5-ти осям | |||
Диапазон перемещений: X: 70 мм, Y: 50мм | |||
Наклон: от -5° до 70° | |||
Вращение: 360° | |||
Диапазон рабочих отрезков | от 2 до 41 мм | ||
Вакуумный шлюз | Входит в базовую комплектацию | ||
Низковакуумный режим | недоступен | доступен | |
Вакуумная система | Полностью автоматизирована | ||
Ионный насос — 2 шт. | |||
Турбомолекулярный насос — 1 шт. | |||
Форвакуумный ротационный насос — 1 шт. | Форвакуумный ротационный насос — 2 шт. |