JSM-7610F – это растровый электронный микроскоп с катодом Шоттки, сочетающий в себе мощную электронную пушку и объективную линзу открытого типа (semi-in-lens). Благодаря такой комбинации этот РЭМ одинаково хорош как для работы с диэлектриками или чувствительными к воздействию электронного луча образцами при малых ускоряющих напряжениях, так и для проведения экспериментов, требующих высоких токов пучка (элементного анализа с использованием спектрометра с волновой дисперсией, получения картин дифракции отраженных электронов, катодолюминесцентных исследований и т.п.).
JSM-7610F комплектуется шлюзовой камерой, что существенно снижает время замены образца, уменьшает загрязнение камеры образцов, нивелирует риск повреждения аналитических приставок из-за резких перепадов давления, продлевает срок службы катода и диафрагм в несколько раз, и в то же время не исключает возможность работы с большими образцами (до 200 мм в диаметре).
JSM-7610F является прекрасным инструментом для решения задач в области исследований наноматериалов, классического материаловедения, анализа качества металлургической продукции, медицины, биологии и др.
Основные преимущества:
• Стабильная, высоконадежная электронно-оптическая колонна JSM-7610F, использующая объективную линзу открытого типа, обеспечивает высокое разрешение (0,8 нм при 30 кВ в ПРЭМ-режиме и 1,0 нм при 15 кВ в режиме регистрации вторичных электронов);
• Термополевой катод, известный также как катод Шоттки, обеспечивает высокие (свыше 200 нА) и стабильные токи пучка, что позволяет использовать JSM-7610F и в качестве аналитического РЭМ;
• Специальная конструкция первой конденсорной линзы микроскопа позволяет намного более эффективно собирать эмитированные катодом электроны и обеспечивает длительный срок службы электронной пушки (более 3 лет);
• Доступность большого количества детекторов различных типов, в том числе LABE, RBEI, SEI, LEI. Низкоугловой детектор отраженных электронов (LABE) прекрасно работает при малых энергиях электронного пучка (вплоть до 100 эВ), позволяя получать информацию и об однородности состава, и о топологии поверхности образца, а также решает проблему с накоплением заряда на поверхности диэлектрических образцов;
• Встроенный в электронно-оптическую колонну r-фильтр позволяет либо разделять сигналы от вторичных и обратнорассеянных электронов, либо смешивать их между собой в заданных пропорциях;
• Линза, оптимизирующая угол вхождения пучка в диафрагму, существенно увеличивает долю электронов, достигающих поверхности образца, позволяя тем самым экономнее расходовать ресурс эмиттера;
• Режим торможения пучка (Gentle Beam), который замедляет электроны перед падением на поверхность образца, сильно снижает повреждения, наносимые пучком, а также позволяет избежать зарядки образцов с плохой электропроводностью;
• Доступность различных типов шлюзов позволяют выбрать оптимальный, включая шлюз с автосменщиком образцов;
• Устанавливаемая в камере образцов криогенная ловушка уменьшает загрязнение колонны при работе с испаряющимися под электронным пучком образцами и, тем самым, продлевает ресурс электронно-оптической колонны;
• Большая камера образцов позволяет работать с объектами диаметром до 200 мм, а также одновременно устанавливать множество разнообразных аналитических приставок (энергодисперсионный спектрометр, спектрометр с дисперсией по длинам волн, детектор дифракции отраженных электронов, детектор катодолюминесценции, рамановский спектрометр и т.п.)
Разрешение | 1,0 нм (15 кВ), 1,3 нм (1 кВ), 0,8 нм (30 кВ, ПРЭМ-режим) 3,0 нм (15 кВ, ток зонда: 5 нА, рабочий отрезок: 10 мм) |
|
Тип источника электронов | Термоэмиссионный катод (катод Шоттки) | |
Ускоряющее напряжение | 100 В - 30 кВ | |
Увеличение | х25 - x1 000 000 (в пересчете на площадь фотопластины 120 мм х 90 мм) | |
Ток пучка | от 1 пА до более, чем 200 нА | |
Линза, оптимизирующая угол вхождения пучка в диафрагму | Встроена в базовую комплектацию | |
Энергетический фильтр | Встроен в базовую комплектацию | |
Вакуумный шлюз | Входит в базовую комплектацию | |
Режим торможения пучка «Gentle Beam» | Доступен в базовой комплектации | |
Цифровое разрешение изображения | 5120 х 3840 пикселей 2560 х 1920 пикселей 1280 х 960 пикселей |
|
Предметный столик | Эвцентрический гониометрический столик | |
Моторизованный по 5-ти осям | ||
Диапазоны перемещений образца для различных типов столиков | X: 70 мм, Y: 50 мм (тип IA) X: 110 мм, Y: 80мм (тип II) X: 140 мм, Y: 80мм (тип III) |
|
Диапазон углов наклона образца: от -5° до +70° | ||
Вращение: 360° | ||
Диапазон рабочих отрезков | от 1 до 40 мм | |
Максимальный диаметр образца | 200 мм (с использованием столика образцов типа III и 8-дюймового шлюза) | |
Вакуумная система | Полностью автоматизирована | |
Ионный насос — 2 шт. | ||
Турбомолекулярный насос — 1 шт. | ||
Форвакуумный ротационный насос — 1 шт. | ||
Криоловушка |