Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
AZ MIR 701 – это термически устойчивый позитивный фоторезист высокого разрешения, оптимизированный для получения субмикронных структур методом сухого травления. Может быть разбавлен для получения сверхвысоких разрешений.
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 1,8 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
- Проявление: TMAH растворы.
- Удаление: стандартные сниматели.
- Техническое описание: AZ MIR 701.pdf.
-
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.
