Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
Фоторезисты данной серии отличаются улучшенной термической устойчивостью, а также высоким аспектным соотношением, что позволяет добиваться хороших результатов в процессах сухого травления при том, что разрешение может достигать субмикронных размеров.
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 1,0 – 1,7 мкм (AZ 6612) и 2,6 – 4,5 мкм (AZ 6632).
- Экспонирование: 320 – 440 нм.
- Проявление: TMAH, KOH и большинство других проявителей.
- Удаление: AZ 100 Remover и большинство других снимателей.
- Техническое описание: AZ 6600.pdf.
-
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.
