Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
AZ 40 XT является химически усиленным, толстым, позитивным фоторезистом с отличной адгезией. Основная особенность резиста – плёнки даже толщиной несколько десятков микрометров не требуют регидрации, что позволяет существенно сэкономить время процесса.
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 15 – 100 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм).
- Проявление: AZ 300 MIF.
- Удаление: стандартные сниматели.
- Техническое описание: AZ 40 XT.pdf.
-
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.
