Материалы компании AZ представлены широкой номенклатурой фоторезистов и химии для литографии. AZ производит позитивные и негативные фоторезисты для процессов жидкостного и сухого травления, а также гальванического осаждения. Также доступны резисты для получения высокого разрешения и процессов обратной (взрывной) фотолитографии. Возможные варианты нанесения: центрифугирование, окунание, спрей.
Толстые негативные фоторезисты AZ 15 nXT и AZ 125 nXT используется в основном для процессов электроосаждения из-за высокой устойчивости и отличной адгезии. Негативный профиль этих фоторезистов позволяет получать сужающиеся структуры. Не требуют задубливания после экспонирования и некоторых других промежуточных шагов.
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 5 – 20 мкм (AZ 15 nXT) и 30 – 100 мкм (AZ 125 nXT).
- Экспонирование: i-линия (365 нм).
- Проявление: AZ 326/726/826 MIF.
- Удаление: TechniStrip NI555.
- Техническое описание: AZ 15 nXT.pdf и AZ 125 nXT.pdf.
-
Условия поставки
Поставка под заказ. Срок поставки от 6 недель.
Упаковка, хранение и транспортировка
Хранить в упаковке от производителя в плотно закрытом контейнере вдали от солнечных лучей и источников УФ излучения при температуре, указанной на упаковке. Минимальный срок годности составляет 3 месяца. Большинство фоторезистов хранятся в течение 6 месяцев. Упаковку открывать строго в жёлтом свете.
Доступные типы упаковок: 1-, 4-, 5- и 200-литровые контейнеры.
