Товары компании Microresist Technology
Артикул: 5-354528
- Толщина, мкм 5-8
- Длина волны экспонирования i-линия либо broadband
- Проявитель ma-D 331/S, ma-D 332/S
- Сниматель mr-Rem 660, mr-Rem 400, ma-R 404/S
Артикул: 5-354529
- Толщина, мкм 0,5-3
- Длина волны экспонирования 300 — 410 нм
- Проявитель воднощелочные растворы
- Сниматель Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354536
- Толщина мкм: 0,5-8
- Длина волны экспонирования:i,h,g линии
- Проявитель :ma-D 331, ma-D 531
- Сниматель :mr-Rem 660, mr-Rem 400, ma-R 404
Артикул: 5-354541
- Толщина мкм: 5-8
- Длина волны 300 — 380 нм
- Проявитель :ma-D 332/S и ma-D 331/S
- Сниматель :Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354542
- Толщина мкм: 0,5-4
- Длина волны 300 — 410 нм
- Проявитель :ma-D 533/S
- Сниматель :Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354554
Фоторезист для гальванического осаждения Microresist Technology Microresist Technology ma-P 1200
Под заказ
- Резист: Позитивный фоторезист
- Толщина мкм: 0,5-8
- Длина волны экспонирования: i,h,g линии
- Проявитель: воднощелочные растворы
- Сниматель: Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354572
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 5-8
- Длина волны экспонирования: 300 — 380 нм
- Проявитель: воднощелочные растворы
- Сниматель: Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354573
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 0,5-3
- Длина волны экспонирования: 300 — 410 нм
- Проявитель: воднощелочные растворы
- Сниматель: Cтанд. сниматели
Артикул: 5-354586
- Резист: Негативный
- Толщина мкм: 0,5
- Другие методы экспонирования: ГУФ
- Проявитель: мА-д-333, мА-д 532, миф 726
- Сниматель: мА-Р 404
Артикул: 5-354591
- Применение: Активатор адгезии
- Особенности: Активатор адгезии для гибридных полимеровв
Вход на сайт
Раздел в разработке.
Отменить заказ
Ваша корзина
| Наименование | Цена | Кол-во | Стоимость | Удалить |
Ваша корзина пока пуста. | ||||
Итого:0 руб.
Ваша корзина