Товары компании Microresist Technology
Артикул: 5-354233
- Свойства до отверждения: Вязкость, Па*с, Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм
- Свойства после отверждения : Усадка, %, Коэф. преломления, КТР, 10-6/К, Модуль Юнга, ГПа, Твёрдость, МПа
Артикул: 5-354234
- Вязкость, Па*с (7-18)*10-3
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм не применимо
- Усадка, % 5-7
Артикул: 5-354235
- Вязкость, 0.4±0.2
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм 10
- Усадка, % 4-6
Артикул: 5-354236
- Вязкость, 2.9±0.4
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм 30
- Усадка, % 2-5
Артикул: 5-354237
- Вязкость, 2.5±1.0
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм 30
- Усадка, % 2-5
Артикул: 5-354238
- Вязкость, 2.9±0.4
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм 30
- Усадка, % 3-5
Артикул: 5-354239
- Вязкость, 10±2
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм 45
- Усадка, % <2
Артикул: 5-354240
- Вязкость, 30±3
- Толщина слоя при 3000 об/мин, мкм 100
- Усадка, % <<2
Артикул: 5-354329
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-P 1200
Под заказ
- Тон: позитивный.
- Толщина плёнки: 0,5 – 7,5 мкм.
- Экспонирование: i-линия (365 нм), h-линия (405 нм) и g-линия (436 нм) или интегральное экспонирование (350 – 400 нм).
Артикул: 5-354330
Резист для оптической, электронной и наноимпринтной литографии Microresist Technology ma-N 400
Под заказ
- Тон: негативный.
- Толщина плёнки: 0,1 – 1 мкм.
- Экспонирование: электронным лучом или ГУФ.
- Проявление: воднощелочными растворами.
Вход на сайт
Раздел в разработке.
Отменить заказ
Ваша корзина
| Наименование | Цена | Кол-во | Стоимость | Удалить |
Ваша корзина пока пуста. | ||||
Итого:0 руб.
Ваша корзина