Наноимпринтная литография (НИЛ) находит всё более широкое применение в области быстрого прототипирования и производства изделий микроэлектроники. Этот процесс характеризуется чрезвычайно высокой простотой и высочайшим топологическим разрешением (единицы и десятки нанометров). Резисты, применяемые для импринтной литографии, должны обладать рядом отличий от резистов, используемых в классической литографии. Они должны создавать относительно тонкие покрытия на поверхности пластины, обладать высокой адгезией по отношению к материалу подложки и низкой — по отношению к материалу штампа.Данный тип фоторезистов специально разработан для создания топологического рисунка с субмикронными топологическими нормами. Эти материалы отличаются повышенной чистотой и степенью фильтрации механических частиц, поскольку наличие загрязнений может существенно снизить выход годных устройств с пластины.
Основные характеристики
Резист |
Толщина, мкм |
Длина волны экспонирования |
Проявитель |
Сниматель |
Позитивные фоторезисты |
||||
1-1,5 |
i и g линии |
AZ 726 MIF, AZ 351B и др. |
Cтанд. сниматели |
|
1-5 |
i,h,g линии |
TMAH, KOH и т.п |
AZ 100 Remover и др. |
|
3-20 |
320 — 440 нм |
AZ 400 K, AZ 300 MIF |
AZ 400T, AZ 300T |
|
0,8-1,5 |
i-линия |
MF-20A series, MF-CD-26, 0.24-0.26N |
Microposit remover 1165 |
|
0,7-3,0 |
i-линия |
MF-CD-26, 0.24-0.26N |
Cтанд. сниматели |
|
0,85-3,0 |
ГУФ |
MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N |
Microposit remover 1165 |
|
0,8 |
ГУФ |
MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N |
Microposit remover 1165 |
|
0,6 |
ГУФ |
MF-20A series, MF-CD-26, 0.26N |
Microposit remover 1165 |
|
0,3-0,6 |
ГУФ |
MF-20A series, MF-CD-26 |
Microposit remover 1165 |
|
0,38 |
ГУФ |
MF-20A series, MF-CD-26 |
Cтанд. сниматели |
|
0,58-0,75 |
ГУФ |
MF-20A series, MF-CD-26 |
Cтанд. сниматели |
|
0,8-1,0 |
i-линия |
MF-CD-26, 0.26N |
Microposit remover 1165 |
|
0,12-1,0 |
i и g линии |
AR 300-35, AR 300-47 |
AR 300-76, AR 300-73 |
|
1,4-2,0 |
i и g линии |
AR 300-26, AR 300-44 |
AR 300-76 |
|
1,4 |
i и g линии |
AR 300-47, AR 300-26 |
AR 300-76, AR 600-71 |
|
Негативные фоторезисты |
||||
0,5 |
ГУФ |
MF-CD-26, 0.26N |
Microposit remover 1165 |
|
1,8 |
ГУФ, i-линия |
AR 300-47, AR 300-26 |
AR 300-76, AR 600-71 |
|
1,4 |
i и g линии |
AR 300-475 |
AR 300-76, AR 300-72 |
Условия поставки
Резисты с высоким разрешением поставляются под заказ
Упаковка
Фоторезисты упакованы в бутылки и банки различного объёма
Хранение и транспортировка
Срок годности и условия хранения резистов с высоким разрешением указаны в техническом описании на данные продукты. Заморозка резистов недопустима.